SEI膜的結(jié)構(gòu)
前人對(duì)SEI膜結(jié)構(gòu)和組成進(jìn)行了廣泛的研究,,現(xiàn)在人們普遍接受的鋰電極表面的鈍化膜模型為:
(1)內(nèi)部由低氧化態(tài)的無(wú)機(jī)鹽組成的致密部分;
(2)外部由有機(jī)層組成的多孔部分。用x射線光電子光譜法(XPS)對(duì)鋰電極在烷基碳酸酯基電解液中形成的SEI
膜深度剖析表明,,SEI膜為一具有馬賽克狀的多層結(jié)構(gòu),,越接近鋰表面的鈍化層,SEI膜組分的氧化態(tài)就越低,。對(duì)在LiAsF6基二甲基碳酸酯(DMC),、干燥的碳酸已烯酯-碳酸二烯酯(EC-DEC)和濕C-DEC等電解液中,新鮮制備的鋰電極表面的分析表明,,越接近Li表面,,SEI膜含有的低氧化態(tài)無(wú)機(jī)組分就越多??拷囯姌O表面的SEI膜主要由一些低氧化態(tài)的無(wú)機(jī)鹽如Li20,、Li3N、Lix《代表F,、C1等)組成,,SEI膜的外部則主要由一些高氧化態(tài)的組分如ROLi、ROCO2Li,、LiH,、LixIMFz等組成。原子力顯微鏡(AFM)研究結(jié)果顯示,,鋰表面的納米結(jié)構(gòu)由晶粒間界,、隆起線和平坦區(qū)域組成,,晶粒間界主要由Li2C03、Li20以及電解液的還原產(chǎn)物如LiC1等組成,,它的結(jié)構(gòu)中存在很多位錯(cuò)和缺陷,。鋰沉積過(guò)程中形態(tài)的改變主要是由于鋰離子大量通過(guò)晶粒間界和隆起線擴(kuò)散造成的。因此,,晶粒間界和隆起線在控制鋰沉積形態(tài),,如枝晶的生成中有著重要作用。掃描電子顯微鏡法(SEM)和傅里葉變換紅外光譜法(FTIR)研究結(jié)果顯示,,鋰幾乎在所有的非水碳酸酯電解液中的電沉積都是枝晶的,,在鋰枝晶上形成的S亞I膜外層主要由Li0C02R、Li2C03,、LioH以及內(nèi)層Li20組成,。當(dāng)電解液中含有少量田時(shí),具有半球狀的鋰上的電沉積是非常光滑的,。這些光滑的鋰表面被一層非常薄的(2~5rm)由LiF/Li20層組成的表面膜所覆蓋,,而且表面膜的組成與含有HF的碳酸酯溶劑的類型無(wú)關(guān),鋰表面SEI膜的組成對(duì)少量F的存在非常敏感,,這可能是因?yàn)樵陔娊庖褐蠰iF是一種非常穩(wěn)定的產(chǎn)物,。
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